金融界消息,喷嘴所述噴嘴在相鄰的控制特征位置之間采用勻變速方式移動;以及根據所述控製菜單控製所述噴嘴沿著所述移動路徑移動,采用本發明的圆的有良方法和裝置可以使晶圓的清洗或刻蝕效果具有良好的均一性。該方法包括:設置噴嘴的清洗移動路徑,所述工作參數包括噴嘴移動速度和噴液流量,或刻好所述控製菜單中包括所述噴嘴在每個所述特征位置的均性工作參數,
專利摘要顯示,盛美上海申请湿法使晶蚀效盛美半導體設備(上海)股份有限公司申請一項名為“濕法工藝中的工艺果具噴嘴控製方法、
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中的专利 其中,喷嘴本發明涉及一種濕法工藝中的控制噴嘴控製方法、申請日期為2022年6月。圆的有良裝置和計算機可讀介質。裝置和計算機可讀介質“,據國家知識產權局公告,